光刻工藝是半導體製造中至關重要的步驟，它決定了半導體器件的工藝精度和性能。光刻是利用光學和化學反應原理，通過精確控制光源和掩範本，將複雜的電路圖案投射到塗有光刻膠的矽片上。光刻工藝包括矽片清洗、塗膠、軟烘、曝光、後烘、顯影等步驟，通過光刻膠在特定光源下的化學變化，形成精確的電路圖形，是實現高性能半導體器件製造的關鍵。

隨著半導體器件的不斷微縮和新技術的應用，光刻工藝正不斷挑戰物理極限，對微污染物也是零容忍。在光刻工藝中，過濾純化技術起到關鍵的作用，能夠有效去除光刻工藝中的微污染物，從而提高光刻工藝的良率和穩定性，是必不可少的環節。

科百特為光刻工藝提供全方位的過濾和純化解決方案，包括各種等級的光刻膠過濾純化、光刻化學品的過濾純化，以及曝光機和Track設備的保護，確保光刻工藝的高效性和可靠性。