行業應用 半導體 光刻工藝 Cobetter過濾、純化解決方案

Photopex™系列PE過濾器

概述

Photopex™系列PE過濾器

PhotopexTM 系列PE過濾器採用了聚乙烯濾膜，具有優異的顆粒截留能力，過濾精度覆蓋sub 1nm至0.2μm，是半導體先進光刻工藝不錯的選擇。其優異的化學相容性能夠滿足半導體工藝製程中嚴苛的需求。

此外，該款產品可以快速啟動並抑制氣泡產生，從而大大減少光刻化學品的浪費。

該產品有多種尺寸與配置，能夠滿足不同客戶的需求。

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產品特點

PE膜材質：能夠高效去除剛性顆粒和凝膠顆粒。

高過濾精度可選：有效減少晶圓上殘留的顆粒數量。

多種配置可選：易於安裝和更換的囊式過濾器，可適用於不同的系統。

靈活的外殼選擇：提供HDPE與PP兩種支撐材料。

 

應用

應用於光刻膠、顯影液和其他溶劑的過濾

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