行業應用 半導體 光刻工藝 Cobetter過濾、純化解決方案

Photogile™ SIN/CIN系列POU過濾器

概述

Photogile™ SIN/CIN系列POU過濾器

PhotogileTM SIN/CIN系列光刻化學品使用點過濾器，應用於光刻化學品的分配系統。

該系列過濾器有PE、Nylon及PTFE三種膜材可供選擇，可確保光刻膠、塗層及溶劑（如ArF、KrF、頂層塗層等）能夠快速啟動過濾。

Photogile SIN/CIN POU過濾器具有優異的顆粒截留能力、高潔淨度和廣泛的化學相容性，滿足半導體工藝製程的嚴苛要求。

此外，該過濾器有多種過濾精度可供選擇，以滿足您的各類製程的需求。

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產品特點

多種膜材可選

截留效率高，潔淨度高，廣泛的化學相容性。

多種過濾精度可選

應用


應用於光阻和光刻化學品溶劑的過濾


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