行業應用 半導體 光刻工藝 Cobetter過濾、純化解決方案

Photogile™ FER系列負性顯影液POU過濾器

概述

Photogile™ FER系列負性顯影液POU過濾器

Nylon或者PE材質無法使用在NTD工藝中的光刻化學品過濾。Photogile FER系列光刻化學品使用點過濾器專門為過濾負性顯影液設計，採用PTFE濾膜搭配PFA支撐層和外殼，確保高潔淨度與化學相容性。全氟設計和先進的清洗工藝確保過濾器有機物析出、金屬離子析出處於很低水準，並減少顆粒脫落，從而提高光刻化學品的品質。

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產品特點

Photogile FER系列光刻化學品使用點過濾器能夠有效地去除污染物和顆粒，滿足嚴苛的NTD工藝製程的需求，過濾精度可達2nm。

應用

應用於負性顯影液和腐蝕性的有機溶劑過濾

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