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行業應用 半導體 光刻工藝 Cobetter過濾、純化解決方案

Photoami™系列光刻化學品過濾器

概述

Photoami™系列光刻化學品過濾器

PhotoamiTM系列過濾器以創新的聚醯亞胺(polyimide)作為濾膜，該濾膜具有均一的孔徑，就像球形蜂巢一樣。高孔隙率使得Photoami系列過濾器具備高流速，高顆粒截留效率，適用於光刻化學品的過濾。

由於Cobetter新開發的聚醯亞胺膜清潔技術，Photoami系列過濾器具有非常低的有機物和金屬離子析出量，這使得客戶在安裝過濾器後可以更快的投入使用。

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產品特點

廣泛的化學相容性：適用於先進的光刻化學品和溶劑的過濾

創新的膜材結構：提供高流量、高效去除膠體和顆粒雜質

非常低的有機物和金屬離子析出量：過濾器可以快速投入使用，減少停機時間

應用

應用於嚴苛的光刻化學品過濾。

資料下載

  1. Photoami™系列光刻化學品過濾器

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