行業應用 半導體 光刻工藝 Cobetter過濾、純化解決方案

Photogile™ LIN系列POU過濾器

概述

Photogile™ LIN系列POU過濾器

PhotogileTMLIN系列光刻化學品使用點過濾器廣泛應用於光阻分配系統。

該系列過濾器有PE、Nylon及PTFE三種膜材可供選擇，可確保光刻、塗層及溶劑（如ArF、KrF、頂層塗層等）具備快速啟動過濾功能，可有效縮短製程準備時間。

Photogile LIN系列具有優異的顆粒截留能力、高潔淨度和廣泛的化學相容性，滿足半導體工藝製程的嚴苛要求。

此外，該過濾器有多種過濾精度可供選擇，以滿足您的各類製程的需求。

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產品特點

多種膜材可選

截留效率高，潔淨度高，廣泛的化學相容性。

多種過濾精度可選

應用

應用於DIW、顯影液和光刻化學品

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  1. Photogile™ LIN系列POU過濾器

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