邁向亞納米時代：Cobetter Sub 1nm PE濾芯提升光刻微污染控制

在半導體精密製造中，光刻工藝無疑是決定工藝精度的關鍵，直接影響半導體器件的最終性能。隨著半導體器件的不斷微縮和新技術的應用，光刻工藝不斷挑戰物理極限，對微污染物更是零容忍。在此背景下，作為過濾技術領域的創新者，Cobetter持續研發攻堅，深耕光刻工藝的高精密過濾，致力於為客戶提供極致的產品。繼1nm PE濾芯取得優秀成績之後，Cobetter已推出的Sub 1nm PE產品也在客戶應用中獲得了優異的性能回饋。

Cobetter自主研發的PE濾膜採用拉伸工藝製造，通過精准控制拉伸過程，使高結晶度的濾膜得以完美成型。憑藉創新的技術工藝，Sub 1nm PE濾膜在製造過程中進一步縮小了膜孔尺寸，並優化了孔徑分佈，從而顯著提升了Sub 1nm PE濾膜的截留能力。實驗數據顯示，在苛刻的過濾條件下，Sub 1nm PE對2nm金顆粒的過濾效率比1nm PE濾膜高出約20%。

从1nm PE和Sub 1nm PE滤膜的电镜图中可以发现，Sub 1nm PE濾膜的孔径更小，且孔更致密地分布在膜表面。

Sub 1nm PE濾芯不僅在顆粒截留性能上得到了提升，還在潔淨度方面進行了優化。对于高精度过滤器，需要嚴格管控金属離子、有機物、顆粒溶出等多項指標。Cobetter通過先進的潔淨管控技術，嚴格管控微污染物，確保濾芯的高潔淨，可以有效減少客戶上機的沖洗時間。

Cobetter高潔淨度的 Sub 1nm PE 測試結果 

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