有效解決顯影液氣泡問題，保證工藝穩定性

顯影是光刻工藝中的關鍵環節，主要通過溶解光刻膠將掩膜版上的圖案轉移到晶圓上。正性顯影液通常由TMAH（四甲基氫氧化銨）水溶液構成。在一些應用場景中，由於設備系統或顯影液自身特性，氣泡容易在顯影液中滯留，這些氣泡會阻擋顯影液與光刻膠的接觸，造成局部區域顯影不足。此外，氣泡干擾顯影液在狹窄線縫中的流動，導致線寬偏差，影響工藝穩定性，甚至可能導致小圖形崩塌或變形，從而降低產品良率。

因此，顯影液的純淨度和穩定性對晶片製程的良率至關重要。為了避免氣泡帶來的顯影缺陷，使用脫氣膜能夠有效地去除顯影液中的氣泡，確保顯影液均勻浸潤晶圓表面，保證精密圖案的完整性和工藝穩定性。

Cobetter脫氣膜在顯影液中的作用

Cobetter-SS脫氣膜採用獨特的微孔疏水性結構，能夠高效去除顯影液中的氣泡。其工作原理是通過中空纖維膜的納米級孔道，使氣體透過膜壁，而液體則無法通過。顯影液經過Cobetter脫氣膜處理後，能顯著減少氣泡，改善顯影均勻性。

提高顯影均勻性：脫氣膜有效消除顯影液中的氣泡，避免因氣泡導致的局部顯影缺陷。

優化加工精度：保證顯影液在小線寬區域的均勻浸潤，確保高精度圖案的完整複製。

延長設備使用壽命：Cobetter膜絲採用均勻小孔徑設計，確保膜的疏水性能持久穩定，適用於高負荷工藝要求。

Cobetter脫氣膜的產品特徵

高效脫氣：中空纖維膜絲提供大面積氣體接觸，顯著提升脫氣效率。

結構穩定：膜絲孔徑均勻且小，確保長期疏水性，延長膜的使用壽命。

材料優異：SS膜絲結合PP外殼，耐高溫、耐腐蝕，適應半導體行業的複雜環境。

Cobetter脫氣膜 成功應用案例

Cobetter-SS脫氣膜已應用於先進的半導體製造工廠，為客戶提供可靠的顯影液脫氣解決方案，有效解決了氣泡導致的顯影缺陷問題，提升了產品良率和保證工藝穩定性。

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