隨著半導體製程技術不斷演進，芯片的技術節點持續縮小，工藝良率愈發容易受到更微小的顆粒影響。在工藝氣體應用中，無論是CVD外延氣體，蝕刻（Etch）工藝刻蝕氣體，還是擴散（Diffusion）工藝摻雜氣體，對顆粒物粒徑的管控越來越嚴格，已經達到了1.5nm粒徑的要求。
Cobetter憑藉深厚的濾膜研發經驗與先進的技術儲備，在氣體過濾純化領域不斷取得突破。針對半導體高純工藝氣體的過濾需求，Cobetter從膜材選型到濾膜設計進行了全面的升級，並專門針對氣體1.5nm顆粒物的過濾進行了全新優化。通過改進PTFE濾膜的製作工藝以及金屬濾膜的燒結工藝，優化孔徑、孔隙率及微孔結構，顯著提升了過濾器的效率與通量，實現了更為高效低阻的出色性能。
目前，Cobetter可為半導體產業鏈客戶提供全覆蓋的氣體過濾解決方案，產品種類齊全，能夠滿足從電子氣體的生產、終端廠務及製程點位的各類應用需求。其氣體過濾器擁有多種材質選擇，既能高效濾除顆粒物，又能滿足不同工況的要求。例如，PTFE濾膜具有低阻力和優異的化學相容性，適用於多種氣體環境的過濾；金屬濾膜具備優秀的耐溫耐壓性能和高強度，適合高溫高壓的苛刻工藝過濾。
Cobetter擁有強大的技術分析和檢測能力，為產品開發和生產管控提供了堅實保障。全面的產品驗證流程確保了產品的性能和品質。
過濾效率測試
導入業內顆粒檢測頭部廠家的先進設備，對1.5nm粒徑的顆粒進行效率測試，為gas filter的驗證提供了堅實的基礎。
型號 | 上游顆粒數，P | 下游顆粒數，P | 效率 |
Cobetter 1.5nm 金屬濾膜產品 | 29995417600 | 9 | ≥99.9999999% |
Cobetter 1.5nm PTFE濾膜產品 | 37234089984 | 15 | ≥99.9999999% |
流速壓差測試
對氣體過濾器進行流速檢測，確保其額定流速下滿足設計壓差。
Cobetter 1.5nm 金屬膜 gas filter 流量壓差曲線
濾芯完整性檢測：通過泡點、擴散流等方法確保濾芯不被破壞，同時有效檢測濾芯的完整性。
濾膜耐壓測試：檢測濾膜耐壓能力，確保內芯強度滿足設計目標；
外殼耐壓測試：過濾器殼體的精細焊接均在超淨手套箱內完成，確保其自身潔淨度，通過耐壓測試保證焊縫的焊接強度及殼體的穩定性；
氦氣洩漏測試：使用業內主流設備進行氦檢測試，檢測靈敏精准，可滿足最苛刻的洩漏檢測要求，氦檢指標高達10-10 Pa•m3/s。
顆粒脫落測試：過濾器自身需要確保潔淨度，使用時不產生顆粒。經過Cobetter嚴格洗淨後，顆粒脫落測試下游為0顆。
在半導體製程中，有機物、水、氧釋放都會帶來極大的危害。Cobetter為用戶進行量身定制，針對性進行開發驗證，提供滿足各種嚴苛要求的Gas filter。
●THC釋放：＜5 ppb。
●O2釋放:＜10 ppb。
●H2O釋放：＜10 ppb。
●包裝運輸測試:進行跌落測試，確保產品包裝運輸滿足要求。
Cobetter嚴苛的品質管理體系確保產品性能可靠，實現持續改進和客戶信任的重要保障。品質管理貫穿於從原材料管理到客戶應用的整個生產過程，涵蓋供應商管理，進料管理，到生產過程管控，以及出貨管控整流程。根據產品系列制定品質控制計畫，明確過程中需要控制的物料、環境、工藝參數、設備及失控行動計畫，並對計畫中的相關檔進行匯總，確保所有控制措施得到有效識別。
結合創新技術與強大的技術檢測分析能力，Cobetter 1.5nm精度氣體過濾器在客戶端展現出優秀表現，持續為客戶提供高性能、高可靠性的氣體過濾解決方案，為客戶提升品質做貢獻。
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