在集成電路芯片的產業鏈中，超淨是一直不變的主題。隨著技術節點的不斷提升，芯片製造工藝對生產設備、關鍵材料及備品備件的潔淨度提出了更為嚴苛的要求。集成電路對微小雜質含量的敏感度越來越高。即便是微量的污染物也會對芯片的良率產生顯著的影響，因此，潔淨度管控的重要性日益凸顯。
在先進製程芯片的製造過程中，會遇到這樣的問題：當濾芯更換後需要長時間沖洗才能滿足製程要求，這一過程不僅導致大量高純化學品的消耗，還直接影響了生產線的整體產能和效率。因此高階製程對濾芯的潔淨度提出了更嚴苛的要求，針對不同類型的化學品，濾芯需要能夠有效控制金屬離子和有機物的析出。
Cobetter，作為行業先進的過濾純化解決方案提供商，在潔淨度的管控上擁有深厚的技術積澱，可以通過定制化方案，滿足客戶在不同工藝高純化學品的需求，減少濾芯沖洗時間，減少啟動時間，提升產能。
SC1工藝中的濾芯潔淨度提升
在高溫SC1的工藝中，POR濾芯上機安裝後，需要非常長時間沖洗才能夠達到Base line。同時濾芯在SC1中的金屬離子析出，會導致Worm Defect的產生。Cobetter為了幫助客戶解決濾芯潔淨度問題，定制化了潔淨度提升方案，濾芯經過短時間的沖洗就可以將總的溶出量穩定在Spec以內，從而減少啟動時間，提升產能。
DHF的濾芯潔淨度提升
先進製程客戶的1%HF溶液中，POR濾芯上機後有持續的Al和Fe離子析出，找Cobetter看是否可以解決這個問題。Cobetter提供定制化的潔淨度等級，能夠長時間保持很低的金屬離子析出。
IPA的濾芯潔淨度提升
IPA Dry工藝對有機污染物尤為敏感，Cobetter定制化潔淨度等級的IPA純化濾芯，可以保證IPA的潔淨度，減少Flush的時間。
綜上所述，Cobetter定制化潔淨度提升解決方案，能夠助力高階製程客戶對微量污染物析出的嚴格要求，為客戶提升良率提供有力支持。
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