為什麼使用AnTstk™ 超純水除靜電裝置?
在半導體行業中,晶片和晶圓上的靜電是不可避免的問題,尤其是在單晶片處理工序中的超純水清洗環節。在這一過程中,絕緣流體流過固體表面時,由於流體與固體表面的摩擦作用,會產生高達幾十千伏的靜電勢,這種高電壓一旦在後續工序中突然放電,對晶片的電路可能造成無法挽回的損壞。並且,靜電還會將塵埃顆粒物吸附到晶圓表面,導致電路短路或者斷路現象。因此,減少工藝中靜電的產生和積累,對於確保半導體晶片生產安全和產品品質至關重要。
基於上述市場需求,Cobetter在此基礎上推出了AnTstk™超純水除靜電裝置,高效且穩定地充入二氧化碳,以降低超純水的電阻率,使其具備導電性,從而消除靜電的影響。原理圖如下,所示旁通18.2MΩ·cm的絕緣超純水和過膜接觸器後的0.02MΩ·cm的導電超純水混合,通過調節二者之間的流量比,客戶可以自由選擇所需出水電阻率,來防止靜電破壞和微粒子的附著。
AnTstk™超純水除靜電裝置
應用場景
掩膜板的清洗
高壓噴射的清洗
切割工序中的清洗
AnTstk™超純水除靜電裝置原理圖
產品特點
機械結構簡單可靠,穩定耐用
電氣控制邏輯簡單,故障率低
膜接觸器完全自研,交期快速
高精度電阻率感測器,數據準確
規格參數
序號 | 專案 | 參數 |
1 | 處理水流量的範圍 | CFLOWSS0207A-P:1-16 L/min CFLOWSS0207A-2P:5-30 L/min CFLOWSS0207A-3P:10-50 L/min |
2 | 電阻率數值範圍 | 0.1-20.0 MΩ·cm,重复性±0.5% |
3 | 電阻率容差 | ±15 %以内(流量稳定时) |
4 | 超純水進液壓力 | 0.1-0.3 MPa |
5 | 二氧化碳使用壓力 | 0.05-0.15 MPa |
6 | 工作場合溫度 | 20-30 ℃ |
7 | 設備儲存溫度 | 10-40 ℃ |
性能曲线
自研創新,穩定高效
膜接觸器充氣功能的保證是基於其微小的疏水性孔道結構,納米級別的孔道允許氣體透過膜孔進入到水中,並阻止液態水透過膜孔。科百特膜接觸器採取中空纖維膜形式,能夠有效的增大和液體的接觸面積,提高傳質效率。同時科百特特殊的膜絲成孔技術,膜絲表面孔徑小且均勻,保證膜絲壽命足夠長,使膜接觸器具備優秀的使用價值。

膜接触器采用独特工艺的PMP中空纤维膜丝,强化了膜丝对二氧化碳的透气性,保证充入膜接触器中二氧化碳气体充分地溶入超纯水中,减少二氧化碳气体的浪费。且由于独特工艺的PMP中空纤维膜丝,充入膜接触器中二氧化碳气体仅需要0.2-1bar的压力,降低二氧化碳的消耗量。
形体紧凑,简单可靠
AnTstk™超纯水除静电装置整体紧凑占地面积小。在生产应用过程中科百特AnTstk™超纯水除静电装置有助于提高操作效率,同时保证产品质量、一致性和稳定性。
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