隨著半導體技術節點不斷縮小至7nm及以下，對光刻化學品的雜質容忍度要求日益嚴苛。在這方面，光刻POU過濾器的應用被證明可以有效降低光刻化學品中微量雜質的含量，從而提高工藝製程的良率。Cobetter Photogile™系列POU過濾器已廣泛應用於終端的Solvent和PR過濾，並且取得了優秀的使用結果回饋。
在Photogile™系列POU過濾器的開發過程中，濾膜孔徑的不斷縮小可以有效提升濾芯對微小雜質的去除能力，與此同時，產品本身的雜質溶出水準也被提出越來越高的要求，因此，POU過濾器的開發是濾膜研發能力、濾芯組裝能力、濾芯清洗技術的共同提升過程。
Wet Particle是評價POU過濾器的重要指標之一，它不僅能反映POU過濾器的雜質攔截能力，還能體現出POU過濾器本身的潔淨度。如果POU過濾器本身不夠潔淨，將無法達到較低的Wet Particle值。
近日，Cobetter Photogile™ PE 1nm POU過濾器在RRC Solvent上的測試取得進一步突破性進展。在滿足19nm Wet Particle小於10ea的要求下，新的Photogile™ PE 1nm POU過濾器所需沖洗的化學品量減少了78%。
同時，在19nm Wet Particle數據穩定後，採用更高靈敏度的15nm Wet Particle測試，結果也顯示出優秀的性能，其值仍小於10ea。
以上驗證結果顯示了CobetterPhotogile™ PE 1nm POU過濾器在處理微小雜質方面的卓越能力，有助於提高工藝製程的良率，為工藝製程提供了更高的可靠性和穩定性。
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