五一國際勞動節前夕，Cobetter光刻領域專家團隊提交的又一重要研究成果——Metal purifier for TMAH developer solution，在SPIE Digital Library上正式收錄發表！SPIE作為全球領先的光學和光電子學領域的國際學術組織之一，一直致力於推動高科技光學、光電子學和影像處理領域的創新發展。此次文章被SPIE收錄發表，代表著Cobetter在光刻領域技術研究取得的成果和持續創新。Cobetter光刻領域專家團隊已經在SPIE Digital Library上多次發表技術文章，持續地為全球光刻領域的技術創新和發展提供了Cobetter的解決方案。
此次收錄的文章主要介紹了Cobetter採用多種純化方案去除TMAH水溶液中的金屬離子，最終，通過功能基團和膜結構的優化，我們很好的克服了傳統方法在TMAH中去除金屬較差的難題。
在半導體晶片製作工藝中，顯影作為光刻膠圖形化中的一個重要步驟，如果顯影液中存在一些微污染物，那麼產生圖案缺陷的風險將會大大提高。當這些微污染物在顯影液中以不溶解的顆粒形式存在時，那麼我們可以在光刻工藝後使用圖案缺陷檢查工具很容易的檢測到它，然後通過Rework流程重做光刻流程；當這些微污染物在顯影液中以可溶解的形式存在時，例如金屬離子，這時使用缺陷檢測工具將很難檢測到它。光刻工藝的後續步驟主要是幹法刻蝕工藝，其中光刻膠圖案用作掩模，如果光刻膠圖案中存在金屬雜質，則金屬雜質在幹法刻蝕過程中從光刻膠膜撞擊到基膜上，這些金屬污染物可能會導致各種半導體器件故障，金屬雜質的存在還會導致以其為中心的附近光刻膠的刻蝕速率產生變化，當我們在基材上的這個微小缺陷上沉積CVD薄膜時，這個缺陷會異常生長。我們稱這種類型的缺陷為Cone defect。Cone defects是對器件良率產生負面影響的主要問題之一。因此，減少來自TMAH顯影液的金屬污染非常重要。
Cobetter創新的TMAH purifier解決方案：
螯合改性金屬離子純化器：此類純化器使用接枝技術將鼇合基團嫁接在濾材上，使得濾材可以對溶液中的金屬雜質起到抓取的作用。
金屬離子去除效果：
我們準備2L 100ppt金屬離子加標的2.38%TMAH於容器中，通過氣壓使得容器中的溶液以100mL/min的流量經過純化器，並在下遊接取濾液，使用安捷倫7900 ICP-MS對濾液中的金屬離子濃度進行分析。結果表明新開發的純化器可以有效地降低2.38%TMAH中的金屬離子雜質濃度，即使單次過濾也可使部分金屬離子濃度從0.1ppb降低到個位數ppt的水準。
TMAH顯影是光刻工藝中關鍵工藝之一，減少TMAH溶液以及光刻化學品中的金屬離子微污染非常重要。經過逐步的研究，Cobetter開發了新型的螯合純化器，這類純化器可以有效去除TMAH中的金屬，特別是Mg、Fe、Ni、Mn、Cr等金屬。
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