CMP Slurry
化學機械拋光液主要由研磨顆粒、各種添加劑和超純水組成，應用於積體電路的化學機械研磨工藝。隨著半導體器件的不斷微縮和集成度的增加，CMP工藝在積體電路生產流程中的應用次數逐步增加，對CMP材料種類和用量的需求也在增加。過濾是拋光液生產過程中的關鍵環節，直接影響產品的性能和品質，有效的過濾系統能夠提高過濾效率、過濾速度以及保證穩定的過濾方式和時間。通過優化過濾設計，可以顯著提升生產效率，並確保產品達到半導體製造過程中嚴格的技術要求和品質標準。科百特為拋光液的生產提供完整的過濾、包裝和流體解決方案。
Cobetter過濾解決方案
Cobetter流體控制輸送解決方案
Cobetter潔淨包裝解決方案
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