行業應用 電子材料 CMP Slurry Cobetter過濾解決方案

Dualvalid™ 系列CMP過濾器

概述

Dualvalid™ 系列CMP過濾器

DualvalidTM CMP過濾器專為集成電路製造商和化學機械拋光研磨液製造商而設計。其專利結構设计結合了折疊式配置與卷繞式梯度结构的PP濾材。外層的折叠部分可增加滤膜表面積並延長過濾器的使用壽命，而內層核心卷繞的結構可高效截留那些可能導致晶圓表面刮傷的顆粒。

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產品特點

外層折叠结构：提供更多的接觸表面面積，增加纳污能力和延长滤芯使用壽命。

內層卷繞濾材：颗粒截留效率高以減少顆粒造成的缺陷。

聚丙烯介質：适用于大多數研磨液。

超純水沖洗：確保高洁净度和低顆粒脫落量。

應用

CMP工藝的研磨液過濾

Slurry供應系統的研磨液過濾

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