Gasclar™ 系列 AMC 化學過濾器專為半導體製程氣體污染控制而設計,可有效去除氣體中的可凝結有機物、酸性氣體、鹼性氣體及難揮發化合物等多種污染源。
濾材採用多層堆疊結構,搭配創新的無膠黏接製程,避免傳統膠合造成的活性碳孔阻塞與氣體逸散問題。
濾膜設計為折疊式,具備大面積有效過濾介面,吸附效率佳,能夠一支濾芯同時濾除多種 AMC 污染物,有效保護設備並提升產品良率。
吸附效率高
阻力壓降小
使用壽命長
潔淨室製造
氣體釋放量低
靈活的客製化設計
曝光機的環境氣體、工藝氣體的保護
潔淨室的環境氣體保護
Gasclar™ 系列AMC化学過濾器