Keevalid™系列CMP過濾器

概述

Keevalid系列CMP過濾器能夠高效去除會造成晶圓表面劃傷的大顆粒，是滿足嚴苛的拋光要求的理想選擇。

連續梯度結構能夠有效去除造成缺陷的大顆粒，同時不會改變研磨液的平均顆粒尺寸和顆粒分佈。

濾芯和囊式過濾器的過濾精度範圍廣，從50nm到150μm，多種結構設計能夠滿足CMP機台端對濾芯長壽命的要求，同時能夠作為研磨液供給前的終端過濾減少缺陷。

獲取報價產品資料

連續梯度結構膜材：有效去除大顆粒，且不會改變研磨液平均顆粒尺寸和顆粒分佈。

聚丙烯濾材：良好的化學相容性，適用於大多數的研磨液，包括STI、W及Cu等研磨液。可選深層或卷繞的納米纖維濾材。

多種濾芯式和囊式過濾器尺寸：濾芯式尺寸可達20英寸，適用於高流量應用。不同的囊式過濾器配置可符合大多數CMP機台上的流量和空間的需求。

超純水沖洗：確保高潔淨度和低顆粒脫落量

CMP工藝的研磨液過濾

Slurry供應系統的研磨液過濾

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