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行業應用 半導體
薄膜沉積

在半導體晶片製造過程中，薄膜沉積是形成器件的重要工藝，這些工藝中會用到各種工藝氣體作為化學反應的關鍵材料。這些工藝氣體的純度和潔淨度直接影響到半導體器件的性能和良率。

工藝氣體中的微污染物會在晶圓表面沉積，導致刻蝕不均勻、薄膜缺陷等問題，從而引發器件缺陷。此外，工藝氣體中的某些化學物質可能參與不必要的反應，導致工藝不穩定和產品一致性差。通過對工藝氣體進行過濾和純化，可以有效去除這些微污染物，提高生產效率並降低缺陷率。

科百特為工藝氣體提供過濾、純化、擴散等解決方案，確保工藝氣體的純度和潔淨度，滿足半導體製造工藝的嚴苛要求。

Cobetter氣體過濾解決方案

Cobetter氣體擴散解決方案

Cobetter氣體純化解決方案

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